多孔陽極氧化鋁板 合金氧化鋁板，花紋氧化鋁板，鋁卷，鋁箔，幕墻氧化鋁板，防銹氧化鋁板，拉絲氧化鋁板，鏡面氧化鋁板，彩涂氧化鋁板，氧化氧化鋁板，沖孔氧化鋁板，鋁帶等產品。 多孔陽極氧化鋁板 緊靠金屬鋁表面是一層薄而致密的阻擋層，多孔層的膜胞為六邊緊密堆積排列 每個膜胞中心都有一個納米級的微孔，孔的大小比較均勻，且與鋁基體表面垂直 彼此平行排列 由于多孔陽極氧化鋁板膜制備工藝簡單孔的形貌和大小還可以隨電解條件不同在較大的范圍內進行調控，此外其獨特的結構特性和較好的熱穩定性，使其成為一種理想的合成納米線，納米管等多種納米結構材料的模板。如把間規苯乙烯利用毛細管作用直接注入不同孔徑的多孔陽極氧化鋁板膜中制備了不同直徑大小的間規苯乙烯納米棒。1． 陽極氧化鋁板的制備 目前多采用草酸，硫酸，磷酸為電解液，用硫酸制得的多孔氧化鋁板膜孔洞之間的距離最小約60nm,多孔陽極氧化鋁板多孔陽極氧化鋁板 多孔陽極氧化鋁板 porouanodalumina,簡稱PA A ,將高純鋁置于酸性電解液中在低溫下經陽極氧化而制得的具有自組織的高度有序納米孔陣列結構.由阻擋層和多孔層構成。用草酸制得的孔洞間距一般是95nm左右 而用磷酸制得的孔洞間距最大約為 420nm而且孔洞間距隨電壓升高會有所增大，傳統方法中 陽極氧化均在零度以上進行 很多研究已表明在零度以上來改變溫度對多孔氧化鋁板的形貌沒有太大影響 1.1實驗方法與步驟 1試樣預處理 將鋁片在溫度為 500攝氏度氮氣保護下退火 5h以消除冷軋時氧化鋁板中產生的應力和晶粒破損等缺陷。增大晶粒尺寸 把退火后的鋁片依次用去離子水乙醇 丙酮超聲清洗各 2min以除掉鋁片表面的有機污染物。將經過上述處理的鋁片在常溫下用高氯酸乙醇混合溶液，進行電化學拋光電壓為 60V時間為 10min2兩步陽極氧化 分別在20和-10下進行陽極氧化第一步陽極氧化是將預處理后的鋁片于溫度200.3M草酸水溶液中進行陽極氧化，鉑電極作陰極，電壓為 40V氧化時間為 6~8h將第一步陽極氧化后的樣品用去離子水沖洗干凈 置于 1.8%鉻酸 H2CrO4和 6%磷酸 H3PO4混合溶液中在60攝氏度下浸泡 10h以除去第一步氧化所形成的氧化膜將經過上述處理后的樣品用去離子水洗凈，進行第二次陽極氧化，氧化時間為 8h其余條件與第一次氧化時間相同另取一經過預處理的鋁片在-10攝氏度 下采用0.3mol/L草酸的乙二醇與水的混合溶液，體積比 2︰3作電解液進行兩步陽極氧化。其余條件與前面相同 3剝離未氧化的鋁基片 用兩種方法剝離未氧化的鋁基，第一種是經過兩步陽極氧化的樣品上表面涂上一層指甲油，再將其置入 CuCl2與鹽酸的混合溶 液 中。

100mLHCl38%+100mLH2O+3.4gCuCl2+2H2O15下約 3h后，取出用去離子水沖洗。另一種是將經過兩步陽極氧化的樣品置于高壓釜中，加入 10mL乙醇在180下反應約 20h將所獲得的多孔氧化鋁板膜取出用去離子水清洗多次。2.陽極氧化鋁板的性質 1孔徑均一 ,排列有序 ,孔密度高 ,可獲得其他樣模。法無法得到高質量納米線陣列;2可采用不同的陽極氧化和電沉積工藝條件來改變納米線的尺寸、結構 ,調節方式靈活簡便;3電化學的常溫制備方法簡單易行 ,可大大減少環境污染和生產成本 將金屬和半導體微粒電沉積到陽極氧化鋁板模板上 ,制備出高度有序的一維金屬納米線陣列 ,使之賦予光、電、磁、催化等特性 ,可用于制備垂直高密度介質、光學器件、功能電極、太陽能選擇吸收膜等。3.多孔陽極氧化鋁板模板的應用 多孔陽極氧化鋁板模板上制備出的不同直徑和長度的納米管或納米線陣列;所制備的納米線有著光、電、磁、催化等特性 ,具有廣泛的用途及發展前景。陽極氧化鋁板膜的功能化應用最初作。為涂裝底膜 ,至上世紀 80年代 ,開始利用氧化膜制備一些具有特殊性能的氧化物薄膜 ,如磁性薄膜、光學及光電子元件、選擇性吸收膜或作為某些反應的催化劑載體。上世紀 90年代開始采用以多孔陽極氧化鋁板為模板向其中電沉積金屬或半導體材料 ,制備一維有序納米線陣列。3.1磁學方面 目前 ,已有不少科研工作者將鈷、鐵、鎳等鐵磁性物質電沉積到AA O模板上柱狀孔內 ,制備出高度有序的納米線陣列。鈷納米線陣列具有較高的垂直磁各向異性 ,可作為高密度有序磁存儲介質 ,制造超高密度磁存儲器。鐵磁性納米線陣列的易磁化軸沿著納米線方向 ,垂直于樣品表面 ,納米磁性微粒的單疇特 性表現為矯頑力較大。由于納米線直徑很小 ,接近于磁性微粒的單疇尺寸 ,所以在納米線陣列中可獲得較大的矯頑力。對于長徑比超過一定范圍的單根磁性金屬納米線 ,若只考慮形狀的各向異性 ,理想的單疇情況下 ,沿易磁化方向 ,磁滯回線應為完全矩形[3]3.2光學方面 利用陽極氧化膜的透光性、光吸收性、光各向異性 ,向其中電沉積 Cu和 Au等金屬微粒制備了納米粒子與 Al2O3組裝體系 ,對其光吸收測量表明 ,組裝體系光吸收帶邊隨金屬沉積量和尺寸而變化 ,從而實現了光吸收帶邊的調制 ,可應用于不同波段的光濾器。此外 ,不同種類的金屬復合介質膜層具有不同的介 電性質 ,對光的吸收具有不同的選擇性 ,使膜層具有一定的色調和對一定光波。